中微半導體上市了嗎，中微半導體公司主營產品及經營數據

　　現在半導體行業(yè)是一個重點發(fā)展的行業(yè)，專門的有大基金投入到集成電路中，而在這一行業(yè)中芯片更是發(fā)展的重點。在看一些經濟政策的時候都可以看到這些信息。今天我們就來關注一下半導體公司之一中微半導體上市了嗎？

　　2019年7月22日，科創(chuàng)板正式開門營業(yè)，首批25家企業(yè)上市。在其中和中微半導體的開盤價在上市第一天就飆升了300％以上，總市值超過600億元。中微半導體成立于2004年，是一家全球性的微加工高端設備公司。其主要產品為集成電路， LED芯片、MEMS等半導體產品制造商提供刻蝕設備、MOCVD（金屬有機化合物化學氣相沉積）設備等設備。

　　目前世界上最先進、能實現批量生產的最小結構是7納米。國際上只有美國泛林半導體與應用材料、日本東京電子、日立四家公司可以實現，而國內只有中微半導體一家公司可以實現這樣的小結構。招股說明書顯示，2016年至2018年，中微半導體分別實現營業(yè)收入6.1億元、9.72億元和16.39億元；歸屬于母公司所有者的凈利潤分別為-2.39億元、3000萬元和9000萬元。因此中微半導體上市了嗎是肯定的，上市時間是2019年7月22日，科創(chuàng)板上市第一批個股。

　　中微半導體設備（上海）有限公司（“中微公司”簡稱證券，證券代碼“688012”）總部位于上海，專注于亞洲，為全球客戶提供技術和設備解決方案。

　　目前公司的等離子刻蝕設備已廣泛應用于國際一線客戶從65納米到14納米、7納米到5納米的集成電路加工制造和高級包裝。本公司的金屬有機化學氣相沉積設備已在行業(yè)領先和線上，投入大規(guī)模生產，成為世界領先的氮化鎵基發(fā)光二極管金屬有機化學氣相沉積設備，在中國處于領先地位。MOCVD設備市場有廣闊的增長空間，包括紅黃LED、紫外LED、功率器件、Mini  LED、Micro  LED等，正在推動顯示技術革命。

　　不得不提到中微半導體公司的創(chuàng)始人、董事長兼總經理尹志堯博士。招股書顯示，尹志堯博士在半導體芯片和設備行業(yè)擁有35年的行業(yè)經驗，是國際等離子體刻蝕技術發(fā)展和產業(yè)化的重要推動者，是89項美國專利和200多項國內外其他專利的主要發(fā)明人。

　　在創(chuàng)建中微半導體之前，尹志堯博士曾在英特爾從事核心技術開發(fā)，之后在林凡半導體領導刻蝕的幾個關鍵產品的技術開發(fā)。1991年至2004年，他在應用材料領域擔任高級管理職務，包括企業(yè)副總裁、刻蝕產品事業(yè)部總經理和亞洲總部首席技術官。

　　中微半導體的其他聯合創(chuàng)始人、核心技術人員和重要的技術工程人員，包括杜志游博士、倪圖強博士、麥仕義博士、楊偉先生和李天笑，先生，他們中的許多人都是資深的技術和管理專家，在國際半導體設備行業(yè)辛勤工作了幾十年，為行業(yè)做出了卓越的貢獻。

　　在刻蝕設備方面，自2004年成立以來，中微半導體首先開發(fā)了甚高頻去耦等離子體刻蝕設備Primo  D-RIE。到目前為止，我們已經成功開發(fā)了三代刻蝕設備：雙反應臺primo  AD-RIE、雙反應臺Primo AD-RIE和單反應臺Primo SSC AD-RIE。它涵蓋了65納米、45納米、32納米、28納米、22納米、14納米、7納米和5納米顯微器件的許多刻蝕應用。

　　2012年中微半導體開發(fā)了感應等離子體刻蝕設備。迄今為止已成功開發(fā)出單反應臺普瑞莫納米VA 刻蝕設備。目前，客戶生產線已批準20個反應室；同時，我們開發(fā)了雙反應臺電感等離子體體刻蝕設備，主要覆蓋刻蝕， 14納米以下微器件的應用，還開發(fā)了電感等離子體深硅刻蝕設備，應用于集成電路的先進封裝和微機電系統(tǒng)傳感器行業(yè)。

　　目前刻蝕設備已經與65納米至7納米加工的刻蝕應用實現了產業(yè)化，正在對7納米和5納米的部分刻蝕應用進行客戶驗證，具有良好的產業(yè)整合性。據了解中微半導體是刻蝕五大設備供應商之一，已在全球最先進的晶圓制造7納米生產線上得到驗證和銷售，其產品技術已經處于世界領先地位。

　　在金屬有機化學氣相沉積設備方面，中微半導體于2010年開始開發(fā)發(fā)光二極管器件加工中最關鍵的設備——金屬有機化學氣相沉積設備。目前，中微半導體已經開發(fā)了三代MOCVD設備，第一代設備Prismo  D-Blue，第二代設備Prismo  A7和第三代30英寸大尺寸設備正在開發(fā)中。

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